据报道，近日，CEA Tech下属研究所Leti已开发出一种与CMOS无尘室兼容的8英寸硅基氮化镓（GaN-on-Si）工艺技术，既能保持半导体材料的高性能，成本又低于现有的碳化硅基氮化镓（GaN-on-SiC）技术。 该研究所在IEDM 2023会议的一场演讲中表示，目前用于电信或雷达的GaN ...
IDTechEx Research guides your strategic business decisions on emerging technologies. We are technical, impartial and experienced analysts and business leaders. Access individual reports or subscribeto ...
一些您可能无法访问的结果已被隐去。
显示无法访问的结果