这项研究由欧姆龙株式会社（OMRON Corporation）与欧姆龙SINIC X公司（OMRON SINIC X Corporation）联合开展，论文以预印本形式发表于2026年6月30日，论文编号为arXiv:2607.00052v1，收录于计算机科学信息检索领域（cs.IR）。有兴趣深入了解的读者可通过该编号在arXiv平台查阅完整原文。

做光学设计的同行都懂，好镜头是“调”出来的，也是“等”出来的。Zemax里反复改曲率和厚度，Lumerical里扫描周期单元的相位响应，一个参数组合跑下来，工作站转一整天是常态。更别提无透镜成像的重建调参、叠层成像的扫描校正，每一步都靠手动调试和 ...